Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
汽氧化是以高纯蒸汽为氧化气氛，由硅片表面的硅原子和分子反
生成二氧化硅。
Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
汽氧化是以高纯蒸汽为氧化气氛，由硅片表面的硅原子和分子反生成二氧化硅。
声明：以上例
、词性分类均由互联网资源自动生成，部分
人工审核，其表达内容亦不代表本软件的观点；若发现问题，欢迎向我们指正。
