Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水氧化是以高纯水
氧化气氛,由硅片表面的硅原子和水分子反
生成二氧化硅。
Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水氧化是以高纯水
氧化气氛,由硅片表面的硅原子和水分子反
生成二氧化硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由片表面的
和水分
反
生成二氧化
。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片表面的硅原子和水分子反生成二氧化硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
汽
化是以高纯
蒸汽为
化气氛,由硅片表面的硅原
和
反
生
化硅。
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,部
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
汽
是以高纯
蒸汽为
气氛,由硅片表面的硅原子
子反
生成
硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是高纯水蒸汽为氧化气氛,由
片表面
子和水分子反
生成二氧化
。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片面的硅原子和水分子反
生成二氧化硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水是以高纯水蒸
为
气氛,由硅片表面的硅原子和水
子反
生
二
硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片表面的硅原子和水分子反
成二氧化硅。
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